十年。
一台光刻机的寿命也不仅仅在于一两代芯片，如果用193nm深紫外光刻机也是可以做到10nm乃至7nm芯片的生产的，只是工艺难度实现起来相对复杂，成本较高，比如采用自对准四次成型技术，就可以得到更加致密的结构，不过因为芯片层级的工艺变得复杂，需要更多掩模版和材料，所以用193nm光刻机生产7nm芯片非常不划算，所以到了这个程度必须上EUV光刻机。
光刻机作为芯片的核心制造设备，也是当前最复杂的精密仪器之一。其实光刻机不仅可以用于芯片生产，还可以用于封装和用于LED制造领域。
目前我国高端的光刻机主要是从国外进口的，而且一台光刻机价值不菲，甚至高达上亿美元。
关于光刻机的寿命网上也没有具体的相关资料说明，所以暂时无法知晓。
