胶膜太薄,易生成针孔,抗蚀能力差;太厚则不易彻底显影,同时会降低分辨率。光刻胶的实际厚度与它的粘度有关,并与甩胶机的旋转速度的平方根成反比。
涂胶方法有旋转涂覆法、刷涂法、浸渍法、喷涂法等。在一定的温度下,使光刻胶液中溶剂挥发,增强光刻胶与基片粘附以及胶膜的耐磨性。
前烘的温度和时间由光致抗蚀剂的种类和厚度决定,常采用电热恒温箱、热空气或红外热源。
胶膜太薄,易生成针孔,抗蚀能力差;太厚则不易彻底显影,同时会降低分辨率。光刻胶的实际厚度与它的粘度有关,并与甩胶机的旋转速度的平方根成反比。
涂胶方法有旋转涂覆法、刷涂法、浸渍法、喷涂法等。在一定的温度下,使光刻胶液中溶剂挥发,增强光刻胶与基片粘附以及胶膜的耐磨性。
前烘的温度和时间由光致抗蚀剂的种类和厚度决定,常采用电热恒温箱、热空气或红外热源。
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