制作芯片过程中的作用不同，光刻机是将设计好的电路图用光学的方式刻印在硅片上，要求的精度相当高，高品质、高精度的光刻机，决定了芯片的产品合格率（效益）。
蚀刻机是将光刻以后的硅片多余的腐蚀去除。制作难度低于光刻机。
刻蚀机和光刻机的区别如下：首先工艺不同：刻蚀机是将硅片。上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上，其次难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造高端的芯片，这两个东西都必须顶尖。
这俩机器最简单的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉，这样看起来似乎没什么难的，但是有一个形象的比喻，每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京都复杂，这就是这光刻和蚀刻的难度。
